為什麼Vray渲染速度慢？原因全在這裏

在VRAY中影響速度的因素涉及到很多方麵，總的來說有；模型因素、材質因素，燈光因素，渲染設置因素等等，這些因素又彼此影響、互相製約。

一、模型因素

　　從光子的分布中可以得到答案：VRAY渲染引擎在模型的每個轉角區域，都進行了密集的光子分布，由於四A中的模型相對簡單，光子密集區域也較稀少。而圖B中由於模型存在很多的轉角，細節，所以光子分布在轉角區域也更加密集，正是這些密集的光子計算耗費了更多的渲染時間。由此可以得出結論；較為複雜的模型（特別是存在較多細小轉角的模型），會耗費更多的渲染計算時間。

小提示：模型的複雜程度對渲染的影響較大，這個問題可以說是"硬件傷"。有時候由於設計上的需要，無法避免複雜模型的出現。因此，隻能通過合理地調整攝影機拍攝的角度，來使這類物體盡可能少地出現在攝影機的拍攝視野裏。當然，這也要看這個物體是否是用戶要表現的主體了。

二、材質因素

　　Vraymtl 材質中反射對速度的影響。

　　反射：顏色亮度值越高速度越慢，反射越強烈。

　　光澤度：這些值越低速度越慢，反射效果越模糊。

　　細分：此值越高速度越慢，模糊顆粒越細膩。

　　最大深度：次數越多速度越慢，反射 越豐富。

Vraymtl 材質中折射對速度的影。

　　折射：顏色亮度值越高速度越慢，折射越強烈。

　　光澤度：此值越低速度越慢，折射效果越模糊。

　　細分：此值越高速度越慢，模糊顆粒越細膩。

　　最大深度：次數越多速度越慢，折射越豐富。

　　半透明：常用於模擬"蠟"、"水"或者"3S"材質。開啟會增加渲染時間。

VR貼圖中反射對速度的影響

　　反射：通道強度值，此值越高反射越強烈。

　　光澤度：此值越低速度越慢，反射效果越模糊。

　　細分：此值越高速度越慢，模糊顆粒越細膩。

　　最大深度：次數越多速度越慢，反射越豐富。

VR貼圖中折射對速度的影響

　　反射：通道強度值，此值越高折射越強烈

　　光澤度：此值越低速度越慢，折射效果越模糊。

　　細分：此值越高速度越慢，模糊顆粒越細膩。

       最大深度：次數越多速度越慢，折射越豐富。

三、燈光因素

　　燈光照明強度越大速度越慢。需要說明的是：不僅僅隻在燈光強度中存在這個問題，對於Vray渲染引擎的（二次反彈）強度以及（天光）照明強度等都存在這個問題。

　　在Vray中的細分也決定著速度快慢，細分值越高，速度越慢，不過陰影效果也更加細膩。

小提示：在燈光方麵影響渲染速度的因素除上述兩點外，燈光數量的多少也會影響到渲染速度。在相同的渲染設置下，隨著燈光數量的增加渲染速度也會變慢，這就是為什麼夜景效果圖的渲染時間往往要多於白天效果圖的原因。

四、渲染設置因素

　　1、抗鋸齒對渲染速度的影響

　　Vray渲染器為我們提供了3種不同的（圖像采樣器（反鋸齒）方式，（反鋸齒采樣"的概念是指采樣和過濾的一種算法，並產生最終的像素組來完成圖像的渲染。嚴格地說，無論采用哪種采樣方式都會增加渲染時間，因此所要考慮的是針對不則情況，不同場景使用不同的（圖像采樣器（反鋸齒）來有效地節省渲染時間。以下是Vray官司方幫助中對不同場景使用不同（圖像采樣器（反鋸齒）的建議，在此僅供參考。

固定圖像采樣器：這個采樣器對於每個像素使用一個固定數量的樣本。對於具有大量模糊特效或高細節的紋理貼圖場景，使用（固定圖像采樣器）是兼顧圖像品質與渲染時間的最好選擇。在本書的實例中，筆者基本是使用這種（抗鋸齒）方式的默認設置來進行測試渲染的。

自適應準蒙特卡洛圖像采樣器：這個采樣器根據每個像素和它相鄰像素的亮度差異產生不同數量樣本。需要說明的是，此采樣器沒有自身的極限控製值，它受（Vray：rQMC采樣器）中（噪波閾值）的製約，因此不可分開來看。當一個場景具有高細節的紋理貼圖或大量幾何學細節而隻有少量模糊特效的時候，特別是這個場景需要渲染動畫時，使用這個采樣器是不錯的選擇。

（自適應細分圖像采樣器）對於沒有Vray模糊特效（直接GI、景深、運動模糊等）的場景中，這個采用器是最好的選擇。在室內效果圖的製作中，這個采樣器幾乎可以適用於所有場景，是平衡時間與渲染品質的較好選擇。

除以上3種"圖像采樣器"外，Vray還提供了多達14種的（抗鋸齒過濾器）的選擇，選擇不同的（抗鋸齒過濾器）對渲染速度也會有一不定的影響，因此筆者建議用戶在渲染出圖時使用默認的（區域）方式即可，然後將圖像的銳化等工作留到後期處理時，在PS中完成，這也不失為一種提高工作效率的方法。

2、全局光引擎對渲染速度的影響

　　Vray渲染器共提共了4種不則的（全局光引擎）：即（發光貼圖）、（光子貼圖）、（準蒙特卡洛算法）和（燈光緩衝）等，這4種不同的（全局光引擎）可以在（首次反彈）和（二次反彈）中相互配合使用。在室內商業效果圖的製作中，使用（發光貼圖）配合（燈光緩衝）方式進行計算，是取得渲染時間與圖像品質平衡的最好選擇。在這裏筆者隻對這兩種引擎進行講述，至於其他渲染引擎的使用，有興趣的用戶可以自行測試。

在首次反彈中，（倍增器）：其值決定場景照明中首次漫射反彈的效果。增加這個值可以使渲染的圖像更明亮，同時也會增加渲染時間。需要注意的是，默認值為1.0可以和蛭很好的效果，其他數值可能會造成計算結果不夠準確。

在二次反彈選項中，（倍增器）：其值決定場景照明中二次漫射反彈的效果。增加這個值可以使渲染的圖像更明亮，同時也會增加渲染時間。需要注意的是，默認值為1.0可以得到很好的效果，其他數值的計算結果可能會不夠準確。當然，在此也需要根據實際情況酌情使用，看場景而定。

在（Vray：發光貼圖）卷展欄中

　　（當前預置）提供了多達8種的預設模式用戶選擇，如無特殊要求，這些預置模式足夠使用了。當然，也可以調整（基本參數）中的各項參數來達到更理想的效果。

　　（模型細分）：這個參數決定單獨的GI樣本品質。較大的取值可以得到平滑的圖像效果，但是渲染時間也會增加，較小的取值雖然速度快，不過也可能產生黑斑。這個值受（Vray：rQMC采樣器）的製約。

　　（插補采樣）：定義用於插值計算的GI樣本數量。較大的取值會得到平滑的圖像效果，模糊GI的細分，也會增加渲染時間。較小的取值會產生更加光滑的細節，但同時也可能產生黑斑。

在（Vray：燈光緩衝）卷展欄中，（細分）決定有多少條來自攝影機的路徑被追蹤。較高的取值會增加渲染時間，不過計算結果也更加準確。

　　3、QMC采樣器對渲染速度的影響

QMC就是"準蒙特卡洛"采樣器。可以說它就像Vray渲染器的大腦，貫穿於V ray的每一種"模糊"評估中（抗鋸齒、景深、間接照明、麵積燈光、模糊反/折射、半透明以及運動模糊等），QMC采樣一般用於確定什麼樣的樣本，以及最終哪些樣本被光線追蹤。